MERATE (LC) – Magistrale – Tesi tecnologica – Metodi di modellizzazione della risoluzione per ottiche e reticoli nella banda X e UV

Magistrale
Sede: Merate (LC)
Durata

6 – 9 mesi

Tutor

 Daniele Spiga

Contatto

daniele.spiga AT inaf.it

Descrizione

L’ottica a raggi X e UV ha conosciuto una notevole espansione negli ultimi decenni grazie all’avanzamento delle tecnologie di focalizzazione per migliorare le capacità di concentrazione. Tuttavia, gli specchi e i reticoli per questa banda spettrale risentono fortemente dei difetti di superficie, che possono peggiorarne le prestazioni di risoluzione spaziale ed energetica. Il problema di prevedere le prestazioni ottiche sulla base delle misure dei difetti di forma e di finitura va dunque affrontato usando l’ottica fisica, ma il calcolo completo sul piano focale comporta delle difficoltà pratiche.
Questa tesi si rivolge a studenti con interessi per l’ottica ondulatoria, in particolare per la matematica della diffrazione della luce, allo scopo di sviluppare una metodologia per il calcolo della figura di diffrazione attesa dalle misure sperimentali su specchi e reticoli di diffrazione, ed effettuarne la validazione mediante test ottici.

[Crediti immagine: INAF-OAB]